分类 | 气体名称 | |
单质气体 | Ar、H2、O2、He、N2、Cl2 | |
化合物气体 | SiH4、PH3、AsH3、B2H6、SiF4、SF6、HCl、H2S、NH3、GeH4、CF4、C2F6、C3F8、C5H12 | |
混合物气体 | ①SiH4+稀释气(Ar、He、H2、N2) | ②PH3+稀释气(Ar、He、H2、N2) |
③AsH3+稀释气(Ar、He、H2、N2) | ④B2H6+稀释气(Ar、He、H2、N2) | |
⑤HCl +稀释气(Ar、He、O2、N2) | ⑥H2S +稀释气(Ar、He、H2、N2) | |
⑦NH3+稀释气(Ar、He、H2、N2) | ⑧Cl2 + 稀释气(Ar、He、N2) | |
⑨CO+SF6 | ⑩H2Se +稀释气(Ar、He、H2、N2) |
分类 | |
掺杂气 | AsH3、PH3、GeH4、B2H6、AsCl3、AsF3、H2S、BF3、BCl3、H2Se、SbH3、(CH3)2Te、(CH3)2Cd、(C2H5)2Cd、PCl3、(C2H5)2Te |
晶体生长气 | SiH4、SiH2Cl2、SiHCl3、SiCl4、B2H6、BBr3、BCl3、AsH3、PH3、GeH4、TeH2、(CH3)3Al、(CH3)3As、(C2H5)3As、(CH3)2Hg、(CH3)3P、(C2H5)3P、SnCl4、GeCl4、SbCl5、AlCl3、Ar、He、H2 |
气相蚀刻气 | Cl2、HCl、HF、HBr、SF6 |
等离子蚀刻气 | SiF4、CF4、C3F8、CHF3、C2F6、CClF3、O2、C2ClF5、NF3、SF6、BCl3、CHFCl2、N2、Ar、He |
离子束蚀刻气 | C3F8、CHF3、CClF3、CF4 |
离子注入气 | AsF3、PF3、PH3、BF3、BCl3、SiF4、SF6、N2、H2 |
化学气相沉积气 | SiH4、SiH2Cl2、SiCl4、NH3、NO、O2 |
平衡气〔稀释气) | N2、Ar、He、H2、CO2、N2O、O2 |
外延气 | SiH4、SiH2Cl2、SiCl4、Si2H6、HCl、PH3、AsH3、B2H6、N2、Ar、He、H2 |
序号 | 组分气 | 平衡气 |
1 | 硅烷(SiH4) | 氦、氮、氢、氮 |
2 | 四氯化硅(SiCl4) | 氦、氮、氢、氮 |
3 | 二氯氢硅(SiH2Cl2) | 氦、氮、氢、氮 |
4 | 乙硅烷(Si2H6) | 氦、氮、氢、氮 |
材质 | 蚀刻组分气 | 平衡气 |
铝(Al) | 四氯化硅(SiCl4)、四氯化碳(CC14) | 氩、氦 |
铬(Cr) | 四氯化碳(CCl4) | 氧、空气 |
钼(Mo) | 二氟二氯化碳(CCl2F2)、四氟甲烷(CF4) | 氧 |
铂(Pt) | 三氟三氯乙烷(C2Cl3F3)、四氟甲烷(CF4) | 氧 |
聚硅 | 四氟甲烷(CF4)、乙烷(C2H6) | 氧、氯 |
硅(Si) | 四氟甲烷(CF4) | 氧 |
钨(W) | 四氟甲烷(CF4) | 氧 |
类型
|
组分气
|
稀释气
|
备注
|
硼化合物
|
乙硼烷(B2H6)、三氯化翻(BCl3)、三溴化硼(BBr3)
|
氦、氩、氢
|
具有P型性质
|
磷化合物
|
磷烷(PH3)、三氧化磷(PCl3)、三溴化磷(PBr3)
|
氦、氩、氢
|
具有N型性质
|
砷化合物
|
砷化氢(AsH3)、三氯化砷(AsCl3)
|
氦、氩、氢
|
|
硒化合物
|
硒化氢(H2Se)
|
氦、氩、氢、氮
|
|
膜的种类 | 混合气组成 | 生成方法 |
半导体膜 | 硅烷(SiH4)+氢(H2) | CVD |
二氧氢硅(SiH2Cl2)+氢(H2) | CVD | |
四氯化硅(SiCl4)+氢(H2) | CVD | |
硅烷(SiH4)+甲烷(CH4) | 离子注入CVD | |
绝缘膜 | 硅烷(SiH4)+氧(O2) | CVD |
硅烷(SiH4)+氧(O2)+磷烷(PH3) | CVD | |
硅烷(SiH4)+氧(O2)+磷烷(PH3) +乙硼烷(B2H6) | CVD | |
硅烷SiH4)+氧化亚氮(N2O)+磷烷(PH3) | 离子注CVD | |
导电膜 | 六氟化钨(WF6)+氢(H2) | CVD |
六氯化钼(MoCl6)+氢(H2) | CVD |
气体种类 | 组分气含量/% | 稀释气 | 压力/kPa |
磷烷(PH3) | 5 | 氢气(H2) | 27.7 |
15 | 氢气(H2) | 27.7 | |
砷化氢(AsH3) | 5 | 氢气(H2) | 27.7 |
15 | 氢气(H2) | 27.7 |
广州市粤佳气体有限公司/广州市谱源气体有限公司版权所有2006-2013 粤ICP备08114730号